該系列設備主要集中頻磁控濺射、電弧離子蒸發和離子源及脈沖偏壓結合等技術為一體，實行全自動化控制。此設備廣泛應用于表帶、表殼、手機殼、五金、餐具等工件上鍍制 TiN，TiC，TiCN、TiAIN，CrN，Cu，Au，Al2O3等各種裝飾膜層。

參數說明：

型號	JTL-1090	JTL-1110	JTL-1312	JTL-1613
真空室尺寸	Φ 1000Χ900mm	Φ 1100Χ1000mm	Φ 1300Χ1200 mm	Φ 1600Χ1300 mm
鍍膜方式及主要配置	3個電弧+平面矩形陰極2對	6個電弧+圓柱陰極2對+平面矩形陰極1對	6個電弧+圓柱陰極4對+平面矩形陰極1對	8個電弧+圓柱陰極8對+平面矩形陰極1對
鍍膜種類	金屬膜，介質膜，化合物膜，反應膜，多功能層次膜
電源	電弧電源，真空磁控電源，中頻磁控電源，脈沖偏壓電源，離子源電源
真空室結構	立式前（單）開門，后置抽氣系統，雙層水冷
真空系統組成	分子泵（擴散泵）+羅茨泵+機械泵
極限真空	8.0Χ10-4
抽氣時間	大氣抽至3Χ10-3Pa≤15min
工件運動方式	公 /自轉，變頻調速
工件烘烤溫度	常溫到 350oC可調可控
控制方式	全自動化控制 PC+PLC/PC+HMI
備注	該設備可按客戶產品及特殊工藝要求訂做